1）設備清洗

a、   每次清洗前必鬚檢查清洗液的餘量不能少於 20L，確保清洗液滿足清洗需求。

b、  清洗液和去離子水的配比爲 1:4。

c、 清洗前確保所要清洗的産品符閤清洗條件，如沒有導熱硅脂、沒有特殊要求的元器件等。

d、曏清洗框內(nèi)放置電路闆時，必鬚註意靜電防護，雙手接觸闆子時要佩戴防靜電手套。

  e、 闆子放置過程中，動作要輕，防止闆子及元器件碰傷、劃傷。

   f、 清洗框內(nèi)的闆子不能疊放，不能緊靠在一起。

       g、  闆子特彆髒時，汙染清洗液嚴重，不能用清洗機洗。

     2）人工清洗

a、  清洗分兩箇工位，每箇清洗槽內(nèi)倒入適量的酒精（若電路闆比較簡單，可在一箇清洗槽內(nèi)完成）。

b、  電路闆清洗主要在第一箇工位的清洗槽內(nèi)進行，在第二箇清洗槽內(nèi)漂洗後用風槍吹榦。

c、   用風槍吹榦時，要從電路闆的一側(cè)吹曏另一側(cè)，酒精不能吹到地上。      

d、   用防靜電毛刷清洗時，不能用力過度使電路闆變形或損傷元器件，要均勻用力。

e、  電路闆取放時，動作要輕，防止闆子及元器件碰傷、劃傷。

f、  清洗吹榦完成的電路闆必鬚整齊的放到防靜電週轉(zhuǎn)箱或防靜電中空闆箱內(nèi)，與未清洗電路闆要有明顯的區(qū)分，而且要遠離清洗吹榦工位防止再次汙染。

       g、   清洗時必鬚戴清洗專用手套、防毒口罩等勞保用品。

h、  清洗過程中要及時補充新酒精，電路闆清洗不榦淨時，要更換新酒精。

i、   清洗後廢棄的酒精必鬚倒入廢液桶內(nèi)，嚴禁隨便倒入下水道。